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代表國際先進水平的石墨烯納米材料化學氣相沉積設備在青島市研制成功

發布時間:2015-1-9 10:43:37      閱讀5675

薄膜沉積設備是國家支持發展的重大技術裝備。近日,青島市賽瑞達電子裝備股份有限公司研制成功一種新的石墨烯納米材料化學氣相沉積(CVD)設備,單管一次可產6英寸石墨烯20片,經專家鑒定達到國際先進水平。

石墨烯是由碳六元環組成的二維周期蜂窩狀點陣結構,是已知最薄、最堅硬、導電性能最好的納米材料,在電子、航天、光學、儲能、生物醫藥等領域具有廣闊的應用前景,其最早由英國科學家從石墨中分離出,并獲得2010年諾貝爾物理學獎。CVD設備是制備單層大面積石墨烯納米材料的關鍵裝備,賽瑞達公司研制的新一代CVD設備,采用不銹鋼真空腔室和石英管真空腔室的雙真空管工藝環境,通過加長恒溫區和改進石英舟的結構設計,提高了設備產能,每管產量可達20片;通過對工藝管內壓力平衡系統進行優化和采用多點充氣彌散氛圍設計,提高了基片成膜的質量和一致性。該設備材料制備過程無污染,總體工藝先進、合理,大大提高了國內納米材料CVD設備的技術水平,市場前景廣闊。

近年來,賽瑞達公司依托企業技術中心,不斷加強創新能力建設,先后研制成功半導體技術專用工藝設備,電子元器件專用工藝設備,集成電路工藝設備,太陽能電池片專用工藝設備,LED工藝設備,砷化鎵工藝設備,納米材料工藝設備,磁性材料工藝設備,航空航天及國家軍工單位專用的工藝設備等產品種類200多個,獲得各種專利及著作權40余項,已成長為國內綜合實力最強的半導體工藝裝備制造企業。(青島市經濟和信息化委員會供稿)

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